上海微电子装备(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
7月15日，由国家知识产权局和世界知识产权组织共同评选的第二十一届中国专利奖正式发布授奖决定，上海微电子公司发明专利“一种步进光刻设备及光刻曝光方法（ZL201110241791.3）”荣获第二十一届中国专利优秀奖，这也是上海微电子公司获得的第九项中国专利优秀奖。
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上海微电子装备(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
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