丹顿真空设备（北京）有限公司磁控溅射等离子体增强化学气相沉积物理气相沉积

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美国丹顿真空设备有限公司成立于1964年，是世界知名真空镀膜设备制造商。从成立至今，丹顿真空已为全球客户设计制造了总数超过5千台的各种规格的电阻/电子束蒸发、磁控溅射、离子束溅射/刻蚀和等离子体化学气相沉积镀膜系统，产品广泛应用于科研开发、小规模制造和工业生产等领域。

丹顿真空具有美国军工资质，从成立伊始即成为美国军方签约的设备供应商，为美国军品研发和制造提供真空镀膜设备。作为美国老牌“军工”企业，丹顿真空以设备的实用性和可靠性见长。

丹顿真空从2001年开始进入中国市场，目前在国内设备保有量接近100台。为了更好地服务中国客户，丹顿真空于2003年成立了丹顿真空北京代表处，全权负责丹顿真空在中国地区的推广销售和售后服务。

丹顿真空设备（北京）有限公司

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